C競技場 · 版本 16.20赫威競技場出裝
奇想繪師
- 平均名次
- 3.60
- 前四率
- 47.5%
- 第一名率
- 14.3%
- 選用率 / 禁用率
- 9.3%
- 競技場排名
- #125
從 1 到 8,越低越好。平均是 4.5。
競技場拿到前四就算贏
8 隊中只有 1 隊拿第一(12.5%)
禁用 4.9%
C 級 · 68,798 場
赫威 最強增幅裝置
依平均名次排序銀級增幅裝置
金級增幅裝置
稜鏡增幅裝置
赫威 道具推薦
括號內是平均名次核心道具
3.10平均名次 · 60.8% 前四率1.5% · 567 場
熱門道具
選用率 · 平均名次赫威 技能點法
3.00 平均名次61.4% 前四率25,683 場
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R123456789101112131415赫威 最佳搭檔
一起玩時平均名次最低
薩亨3.2557.2% 前四率 · 980 場
弗力貝爾3.2656.0% 前四率 · 1,271 場
賽特3.3054.8% 前四率 · 1,492 場
斯溫3.3752.7% 前四率 · 1,166 場
銳兒3.3852.1% 前四率 · 979 場
科加斯3.3952.2% 前四率 · 1,190 場
犽宿3.4751.7% 前四率 · 1,170 場
布蕾爾3.4850.6% 前四率 · 1,077 場
加里歐3.4950.1% 前四率 · 1,058 場
布里茨3.5249.1% 前四率 · 1,158 場
魔鬥凱薩3.5349.3% 前四率 · 1,074 場
賽勒斯3.5449.0% 前四率 · 1,053 場赫威 技能介紹

被動筆仙真跡
赫威對敵方英雄造成傷害時,會在其身上簽名。 使用傷害性技能命中敵軍第二次後,便會完成簽名,並在其腳下留下筆跡。筆跡會在短暫延遲後爆炸,並對範圍內的所有敵軍造成魔法傷害。

Q主題:厄禍筆法
赫威從厄禍汲取靈感,畫出可毀滅敵人的災難。 使用此技能後,赫威的技能會被以下傷害性技能取代:「壞滅熾燄」、「震顫轟雷」,以及「熔岩裂隙」。
冷卻時間: 10/9/8/7/6s · 消耗: 80/90/100/110/120
W主題:靜謐筆法
赫威從靜謐汲取靈感,畫出可鼓舞友軍的祝福。 使用此技能後,赫威的技能會被以下輔助技能取代:「川流湍急」、「明鏡止水」,以及「迴旋光暈」。
冷卻時間: 18/17.5/17/16.5/16s · 消耗: 90/95/100/105/110
E主題:苦惱筆法
赫威從苦惱汲取靈感,畫出可壓制敵人的幻影。 使用此技能後,赫威的技能會被以下控場技能取代:「死神面影」、「深淵凝視」,以及「碎骨大顎」。
冷卻時間: 12/11.5/11/10.5/10s · 消耗: 50/55/60/65/70
R絕望螺旋
赫威畫出一個絕望氣場,命中的第一名敵方英雄會變為氣場的中心點。氣場會逐漸擴大,對鄰近敵軍造成傷害和緩速效果。擴大到上限或該英雄死亡時,氣場便會爆炸。
冷卻時間: 120/100/80s · 消耗: 100















